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经营模式: | 生产加工 |
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发布时间:2022-09-07 18:18:00 作者:苏州特斯特
等离子开封设备PlasmaEtch是一个革命性的气体为基础的半导体蚀刻系统。采用以前从未见过的应用微波气体化学基团为各向同性腐蚀。PlasmaEtch腐蚀大部分样本大小,封装类型和引线键合的类型。无论它是一个传统的金丝样品或者该样品设有铜或银导线,PlasmaEtch都提供了的蚀刻。等离子开封设备是为快速蚀刻模具化合物,聚酰芯片特别研发的,无需攻击敏感的接线便可将芯片开封。
等离子开封机优点:
1)对铜线、数化铜线及
2) 银线线无伤害
3) 伤害小 (selectivity > 500:1)
4)快速等向性蚀刻
5) 无离子、无辐射
6) 加力聚焦下游等离子体刻蚀
7) 质量流量控制的所有气体
8) 低温蚀刻
9) 各向同性蚀刻
苏州特斯特电子科技有限公司,主要从事各类测试、检测仪器设备的代理销售和技术服务,产品涵盖电子元器件,电路板,线缆线束的测试与检测。
芯片开封方式通常有机械开封、化学开封和激光开封。芯片开封机是用于开封的机器,有化学芯片开封机、激光芯片开封机和等离子芯片开封机。
开封范围
普通封装 COB、BGA、QFP、 QFN、SOT、TO、 DIP、BGA、COB 陶瓷、金属等其它特殊封装。
开封方法
一般的有化学(Chemical)开封、机械(Mechanical)开封、激光(Laser)开封。
激光开封机特点:
1、对铜引线封装有很好的开封效果。
2、对复杂样品的开封极为方便。
3、可重复性、一致性极高。
4、电脑控制开封形状、位置、大小、时间等,操作便利。
5、对环境及人体污染伤害较小,安全性高。
6、几乎没有耗材,使用成本很低。
7、体积较小,容易摆放。
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